化学气相沉积（CVD）技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。在典型的CVD工艺过程中，一种或多种蒸汽源原子或分子混合于腔室中，在外部能量作用下（如加热、光照等离子体等）发生化学反应并在晶圆表面形成需要的固体薄膜。通常，工艺过程中还会产生很多副产物，这些副产物会被气流带走离开腔室。由于CVD技术具有生长速率快、成膜范围广、重现性好、可实现外延生长等优点，被广泛用于多种不同形态的成膜，如化合物薄膜、单晶薄膜、多晶薄膜和非晶薄膜，并成为微电子领域、光电子领域和功能涂层等的关键技术。
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